眾所周知，對于電子光學行業(yè)也就是生活中常見的半導體設備加工時用到的集成電路芯片、電子試劑用水、電子管涂敷配液用水、封裝用水、液晶顯示器屏面清洗用水、光學鏡片清洗用水、微電子工業(yè)、微電子工業(yè)以及各種電子器件的生產(chǎn)用水對于水質(zhì)的要求極高，本文一起來了解一下關于：電子光學用的edi超純水設備。

　　電子光學用的edi超純水設備采用的是電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體的連續(xù)電除鹽技術(shù)，其工作的原理是通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，實現(xiàn)水中離子的定向遷移，最后達到水的深度凈化除鹽。

　　離子交換樹通過水電解是可以實現(xiàn)連續(xù)再生，在水電解的過程中產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續(xù)再生，而且在設備制水的整個過程中都是不需要加入任何的堿、酸化學藥品再生。

　　電子光學用的edi超純水設備的出水水質(zhì)需達到：

　　1、企業(yè)的對于設備的出水水質(zhì)要求;

　　2、電力裝置的繼電保護和自動裝置設計規(guī)范(GB50062-1992);

　　3、工業(yè)與民用電力裝置的接地設計規(guī)范(GBJ65-1983);

　　4、ZBG98020-90《水處理設備系列型譜》;

　　5、GB/T11446.1-1997國家電子級超純水標準Ⅰ級≥18MΩ/CM (25℃)95%以上時間;